四氟化氙

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四氟化氙化学式XeF4)是稀有气体氟化物之一,是第一个发现的稀有气体二元化合物[1]

製造

  • 首次制备的方法:由Xe与F2以1:2摩尔比反应得到。[2][3]该反应是放热反应,每摩尔反应放出251kJ的热量。[1]
  • 放电合成法:将氙与氟按体积比1:2加入反应容器(温度需控制在-78℃),放电条件为1100V、31mA到2800V、12mA,反应历时3小时。电压不能太高否则氙与氟发生燃烧反应。为了主要获得四氟化氙,氟需要略微过量。
  • 光化学合成法:在近紫外光照射下,氟与氙反应得到二氟化氙。它与氟混合在紫外线下继续照射可得四氟化氙。如果条件适当,该法纯度高,而且可以连续进行。
  • 二氟化二氮氟化法:在200℃以下将二氟化二氮与氙共热,主要得到四氟化氙。该法可以避免使用危险且难以制备的氟单质。
  • 高能辐射合成法:用60Co产生的γ射线或1.5MeV的电子流照射氙与氟的混合物。[4]

物理性质

四氟化氙是一种无色固体,室温下易升华。四氟化氙微溶于无水氟化氢,但并不电离。它不溶于全氟庚烷中,但可溶于NOF·3HF。[4]

结构

1963年核磁共振谱与X射线晶体学数据显示其四氟化氙的空间构型为平面正方形[5][6]四氟化氙为体心单斜晶系,X射线衍射法和中子衍射法测得Xe-F键键长约为190pm。

化学性质

四氟化氙在室温下稳定,可以长期储存在制容器中,如果去除水和氟化氢也可保存在玻璃容器中。

  • 它能被气还原,该反应可用于分析鉴定:
 XeF4+2H2403KXe+4HF
 6XeF4+12H2O2XeO3+4Xe+3O2+24HF
这个反应机理很复杂,Xe(IV)先发生歧化反应得到Xe(0)和Xe(VI),然后分别氧化水并放出氧气。
 XeF4+Xe673K2XeF2
 XeF4+F2673KXeF6
 XeF4+O2F2140195KXeF6+O2
 XeF4+PtHFXe+PtF4
它还能将稀土元素的三氟化物转化为四氟化物,将四氟化硫氟化成六氟化硫(反应较慢)。
 XeF4+2CF3CF=CF22CF3CF2CF3+Xe
  • 它在撞击或震动下都很稳定,不会爆炸性分解。但与有机物(例如四氢呋喃二氧六环丙酮乙烯)接触时会剧烈反应而引起燃烧。如果与气态的乙醇或丙酮反应将发生爆炸。
  • 氟磺酸中的-OSO2F是电负性很高的基团,可取代四氟化氙中的氟原子形成衍生物:
 XeF4+2HOSO2FF2Xe(OSO2F)2+2HF
但后来化学家再次进行该实验时,只得到了二氟化氙的衍生物。这可能是过去使用的四氟化氙不纯造成的。[4]
  • 以下是四氟化氙参与的有机反应:

参考资料

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参见

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