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對映體過剩率
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'''对映体过剩率''',常用ee表示,即enantiomeric excess的缩写。定义为在对映体混合物中一个异构体a比另一个异构体b多出来的量占总量的百分数。算式如下:<ref>{{GoldBookRef|file=E02070|year=1996|title=Enantiomer excess}}</ref> :<math>\ ee=\frac{a-b}{a+b} \times 100\%</math> 对映体过剩率用来表示一种[[手性]]化合物的[[光学纯度]]。''ee''值越高,光学纯度也越高。 对映体过剩率产生于[[核磁共振]]技术以前。当时人们无法测量对映体的绝对含量,于是就用对映体过剩率来表示光学纯度。而现在人们可以做到测量对映体的绝对含量,所以有人建议逐渐废除对映体过剩率这个概念。<ref>{{Cite journal|title=Do the Terms “% ee” and “% de” Make Sense as Expressions of Stereoisomer Composition or Stereoselectivity?|url=https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/jo052554w|last=Gawley|first=Robert E.|date=2006-03|journal=The Journal of Organic Chemistry|issue=6|doi=10.1021/jo052554w|volume=71|pages=2411–2416|language=en|issn=0022-3263|pmc=2536600|pmid=16526791|access-date=2018-11-09|archive-date=2019-06-10|archive-url=https://web.archive.org/web/20190610082127/https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/jo052554w|dead-url=no}}</ref> ==註釋== {{reflist}} {{不对称合成}} {{Chem-stub}} [[Category:立体化学]]
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